В России создали первый отечественный фотолитограф: совместная разработка с Беларусью
Уникальные технологии и первый заказчик
В Москве представлен первый полностью отечественный фотолитограф с разрешающей способностью 350 нм. Разработку выполнила российская компания — резидент ОЭЗ «Технополис Москва» совместно с белорусскими специалистами.
Как сообщил мэр Москвы Сергей Собянин, это важный шаг на пути к технологической независимости России в сфере микроэлектроники. На данный момент в мире меньше 10 стран обладают компетенциями по созданию подобных установок. Теперь к их числу присоединилась и Россия.
Чем отечественная установка отличается от зарубежных аналогов?
Фотолитограф использует твердотельный лазер вместо ртутной лампы, что обеспечивает:
- Повышенную мощность и энергоэффективность;
- Более высокую долговечность;
- Узкий спектр светового излучения, лучше подходящий для микроэлектроники.
Дальнейшие планы и развитие
Известно, что у фотолитографа уже есть первый заказчик, и сейчас ведется адаптация техпроцессов под его производство.
На этом разработчики останавливаться не собираются:
- К 2026 году планируется освоение 130 нм.
Отечественная микроэлектроника делает новый шаг вперед. 🚀