Китай готовится к массовому выпуску новых литографов к 2026 году
Китай делает значительный шаг вперёд в разработке технологий экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии, которая долгое время оставалась прерогативой нидерландской компании ASML. Новый литографический комплекс, проходящий тестирование на заводе Huawei в Дунгуане, использует инновационную технологию плазмы, индуцированной лазерным разрядом (LDP). Пробное производство системы намечено на третий квартал 2025 года, а массовый выпуск запланирован на 2026 год. Успех этого проекта может разрушить техническую монополию ASML в области передовой литографии.
Новая технология: LDP против LPP
В отличие от метода ASML, основанного на лазерно-индуцированной плазме (LPP), китайская система LDP генерирует EUV-излучение с длиной волны 13,5 нм за счёт испарения олова между электродами и преобразования его в плазму с помощью высоковольтного разряда. Столкновения электронов и ионов в этой плазме создают необходимую длину волны. Такой подход обеспечивает ряд преимуществ:
🔹 Упрощённая архитектура;
🔹 Меньшие габариты;
🔹 Повышенная энергоэффективность;
🔹 Возможное снижение производственных затрат по сравнению с технологией ASML, которая полагается на мощные лазеры и сложные системы управления.
Преодоление санкций и технологических барьеров
Санкции США, ограничивающие поставки EUV-оборудования в Китай, ранее тормозили развитие местной полупроводниковой промышленности. Китайские компании были вынуждены использовать системы глубокой ультрафиолетовой (DUV) литографии с длинами волн 248 нм и 193 нм. Новая система Huawei с её 13,5-нм излучением может стать прорывным решением, способным изменить ситуацию.
Вызовы и перспективы
Несмотря на оптимистичные прогнозы, перед новой системой стоят серьёзные вызовы:
🔹 Необходимо обеспечить высокое разрешение и стабильность;
🔹 Требуется совместимость с существующими производственными процессами;
🔹 Коммерциализация технологии потребует значительных усилий и времени.
Коммерческий успех EUV-литографии от Huawei бросит вызов доминированию ASML, чьи новейшие High-NA EUV-системы стоят около 380 миллионов долларов. Для Китая, несмотря на высокие затраты на разработку, собственная EUV-машина станет ключом к независимости в производстве чипов.
Сотрудничество с ведущими фабриками
Ведущие китайские фабрики, такие как SMIC, уже сотрудничают с Huawei для интеграции новых сканеров в свои процессы. Однако создание полноценной производственной цепочки требует времени и значительных инвестиций.
Что из этого следует?
Китай активно развивает собственные технологии EUV-литографии, чтобы преодолеть зависимость от зарубежных поставок. Успех проекта Huawei может не только изменить баланс сил на рынке полупроводников, но и стать важным шагом к технологической независимости Китая. Массовый выпуск новых литографов запланирован на 2026 год, и от их качества и эффективности будет зависеть будущее китайской микроэлектроники.